更新時間:2026-10-09
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超高純度材質純度99.99%(4N 高純金),雜質含量極低,濺射放電穩(wěn)定,膜層成分純凈;金本身導電性能優(yōu)異,鍍膜后可以快速導出電荷,消除絕緣樣品荷電、圖像發(fā)白漂移問題,二次電子發(fā)射效率高,成像對比度好?;瘜W惰性強,金膜不易氧化,鍍好的樣品可以長時間存放,導電層不容易失效。
原廠精密加工,尺寸匹配設備規(guī)格 Φ48.5×0.1mm,圓盤平整度、定位孔尺寸嚴格按照 JEOL 設備腔體設計,直接替換安裝,無需修改、調試;靶面精密拋光,表面劃痕、缺陷控制嚴格,濺射區(qū)域均勻,不會出現(xiàn)局部膜厚不均、飛濺大顆粒的問題;同批次、不同批次靶材鍍膜重復性穩(wěn)定,實驗數(shù)據(jù)可復現(xiàn)。
濺射速率快,制樣效率高金的濺射產(chǎn)額高,同等參數(shù)下鍍膜速度比鉑靶更快,短時間即可形成連續(xù)導電薄膜;適合大批量樣品快速制樣,高校、檢測中心批量樣品測試非常友好。
真空密封包裝,降低污染風險原廠真空獨立封裝,隔絕空氣、粉塵污染;靶材超薄 0.1mm,出廠保護到位,開箱后靶工作面潔凈,減少樣品被雜質污染的概率。
性價比優(yōu)勢對比 JEOL 原廠鉑靶,金靶采購成本更低,大批量常規(guī) SEM 制樣可以明顯降低實驗室耗材開銷,是通用 SEM 最主流耗材。
適用樣品范圍廣高分子塑料、粉體、礦物、生物樣品、陶瓷等各類絕緣樣品均可使用;中低放大倍率觀察(一般 5000 倍以內),形貌還原效果優(yōu)秀,不會掩蓋樣品宏觀表面結構。
設備兼容性好,放電穩(wěn)定專為 JEOL 磁控濺射冷噴涂工藝開發(fā),濺射過程放電平穩(wěn),冷濺射工藝對熱敏樣品(生物、軟塑料)損傷小,不易灼傷、破壞樣品原始形貌JEOL USA I
原廠品質保障JEOL 原裝備件,配套設備算法、濺射參數(shù)是配套標定的,不會出現(xiàn)雜牌靶材常見的:濺射打火、膜層開裂、顆粒飛濺、批次差異大等故障,減少設備腔體污染,延長鍍膜儀維護周期。
| 項目 | JEOL 金靶 780110871 | JEOL 鉑靶 780174721N |
|---|---|---|
| 晶粒 | 金晶粒較大 | 鉑晶粒超細 |
| 適用倍率 | 常規(guī) SEM、中低倍率 | FE-SEM、幾十萬倍高分辨 |
| 濺射速度 | 快,制樣高效 | 相對慢 |
| 耗材成本 | 較低 | 昂貴 |
| 樣品保存 | 膜層穩(wěn)定不易氧化 | 膜層穩(wěn)定 |



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